Likid Cyclohexane CAS 110-82-7 Kòm Solvans Photoresist

Pwodwi Deskripsyon

Ki sa ki Cyclohexane?

Cyclohexane se yon sòlvan òganik san koulè, temèt ak tansyon sifas ki ba ak solubilite segondè. Nimewo CAS li se 110-82-7, nimewo EINECS se 203-806-2, fòmil chimik se C₆H₁₂, pwa molekilè se 84.16. Dansite se 0.77, pwen k ap fonn se 6.5 degre, pwen bouyi se 81 degre. Pwen flash se -18 degre, prèske ensolubl nan dlo, presyon vapè nan 37.7 degre se 168.8 mmHg, dansite vapè relatif nan lè a se 2.9.

Enfòmasyon de baz

Itilizasyon

Cyclohexane gen avantaj sa yo kòm yon sòlvan fotorezist:

• Bon solubility: Li gen bon solubility pou divès konpozan tankou rezin ak fotosensibilisateur nan photoresists, epi li ka fè konpozan sa yo respire gaye nan solisyon an yo fòme yon sistèm photoresist ki estab ak inifòm, ki se fezab nan fòmasyon an ki vin apre nan yon fim reziste inifòm sou substra a.
• Pwen bouyi ki ba ak volatilité: Pwen bouyi li se sou 81 degre, ki se relativman ba. Apre fotorezist la kouvwi, li ka evapore byen vit, se konsa ke fim nan reziste ka cheche byen vit, diminye tan an pwosesis ak amelyore efikasite pwodiksyon an. Anplis, pandan pwosesis fotolitografi a, presizyon nan reyaksyon fotochimik ak transfè modèl pa pral afekte pa résidus sòlvan.
• Segondè estabilite chimik: Li gen estabilite chimik segondè, li pa fasil reyaji chimikman ak konpozan yo nan fotorezist la, epi li pa fasil dekonpoze oswa deteryore anba kondisyon yo nan limyè, devlopman, elatriye pandan pwosesis la fotolitografi. Li ka asire estabilite nan pèfòmans nan fotorezist la epi asire bon jan kalite a ak presizyon nan modèl la fotolitografi.
• Tansyon sifas ki ba: Cyclohexane gen yon tansyon sifas ki ba, ki pèmèt solisyon an fotorezist gaye pi byen sou sifas la substra pandan kouch, fòme yon fim inifòm ak plat reziste, ki se benefisye amelyore rezolisyon an nan fotolitografi ak diminye defo modèl ki te koze pa epesè fim inegal oswa sifas inegal.
• Pri -efikasite: Li se yon sòlvan òganik relativman komen epi ki pa chè ak yon pakèt sous. Lè mas-pwodwi fotorezistans, lè l sèvi avèk Cyclohexane kòm yon sòlvan ka diminye depans pwodiksyon epi li gen bon pratik ekonomik.

Enfòmasyon sou Sekirite

Kenbe lwen sous ignisyon.
Evite kontak ak je.
Pran mezi prekosyon pou anpeche jenerasyon elektrisite estatik.
Jete materyèl sa a ak veso li yo kòm dechè danjere.
Evite lage nan anviwònman an. Gade nan Enstriksyon Espesyal/Fèy Done Sekirite.
Si yo vale, pa pwovoke vomisman; chèche konsèy medikal imedyatman epi montre veso a oswa etikèt.
Kenbe veso a nan yon kote ki byen-aere.

Konpayi Profile

Gneebiose yon antrepriz ki espesyalize nan rechèch, devlopman, pwodiksyon ak lavant fitochimik ak pwodui chimik amann. Faktori nou an te etabli an 2016 epi li sitiye nan pwovens Henan, ki kouvri yon zòn 3,600 mèt kare. Nou gen yon ekip R&D pwofesyonèl, byen-ekipe ak-wo kalite ki gen plis pase 10 ane eksperyans R&D. Noureyaktifpwodwi yo lajman ekspòte nan anpil peyi ki gen ladan Etazini, Larisi, Kanada, Ostrali, Ewòp, elatriye, epi nou bay sèvis anbake rapid nan kliyan nou yo. Nou espere etabli koperasyon alontèm ak benefis mityèlman ak plis zanmi alavni epi bay pi bon pwodwi ak sèvis pou kliyan nou yo.

Pwodwi popilè nou yo gen ladan pwodwi chimik òganik:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Phenyliodosohydroxy Tosylate, katalis:CAS 110-02-1 Thiophene, nan mitan lòt moun.

Kontakte nou

FAQ